Extended Abstracts of the 2009 International Conference on Solid State Devices and Materials会议文献
用原子力显微镜进行石墨烯纳米刻写
AFM Nanolithography of Graphene
Extended Abstracts of the 2009 International Conference on Solid State Devices and Materials · SSDM 2009, G-9-1, Sendai (2009)
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论文介绍
在仙台举行的 SSDM 2009 会议上，普渡大学团队介绍了用原子力显微镜加工石墨烯的工作。同一团队发表的期刊论文展示了这种技术怎样在石墨烯上刻出绝缘沟槽，制作纳米带和亚微米尺度的环。
阅读赏析
这项工作的巧妙之处，是把通常用于观察表面形貌的探针也用作刻写工具。结合团队的期刊论文来读，可以区分探针经过后表面留下的沟槽和凸起，并理解刻写条件如何影响图形。