用反射光识别三种二维半导体的层数
研究用原子力显微镜校准光学测量，在指定衬底上快速判别单层和少层薄片。
Jia-Peng Wu、Le Wang 与张立源将 MoS₂、MoSe₂ 和 WSe₂ 薄片置于带有 275 nm 氧化层的硅衬底上，比较了不同层数样品的反射光谱。
研究者用原子力显微镜核对厚度，再以薄膜光学模型解释光谱随层数的变化。在同样的衬底条件下，后续样品可以直接按反射特征筛选，无需逐片进行接触式测厚。
研究用原子力显微镜校准光学测量，在指定衬底上快速判别单层和少层薄片。
Jia-Peng Wu、Le Wang 与张立源将 MoS₂、MoSe₂ 和 WSe₂ 薄片置于带有 275 nm 氧化层的硅衬底上，比较了不同层数样品的反射光谱。
研究者用原子力显微镜核对厚度，再以薄膜光学模型解释光谱随层数的变化。在同样的衬底条件下，后续样品可以直接按反射特征筛选，无需逐片进行接触式测厚。